电脑式HMDS涂胶烤箱真空预处理镀膜烘箱$n用于半导体生产工艺流程,HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
查看详细介绍HMDS预处理真空烘箱全自动涂胶烤箱 PVD-210-HMDS预处理真空烘箱,PLC电脑式全自动涂胶烤箱,主要用于半导体,电子行业,预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
查看详细介绍HMDS真空烘箱温度与PLC联动 应用于半导体生产工艺中的HMDS涂胶,设备外壳采用SUS304不锈钢材质,内胆316L不锈钢材料制成;不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。
查看详细介绍电脑式HMDS涂胶机烤箱 主要用于半导体行业,HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
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